次大气压下辉光放电的视觉特征呈现均匀的雾状放电，放电的电流电学特征为单脉冲，放电温度为室温。次大气压辉光放电可以处理各种高分子材料、生物材料、金属材料、纺织品材料、异型材料。设备成本低、处理的时间短、可加入各种气氛，气氛含量高、功率密度大、处理效率高。可应用于表面聚合、表面接枝、金属渗氮、冶金、表面催化、化学合成及各种粉、粒、片材料的表面改性和的表面处理。电子和离子的能量可达10eV以上。材料批处理的效率要高于低气压辉光放电10倍以上。

主要应用于表面清洗、改善复合材料粘附性、细胞培养皿,组织培养皿的亲水、心脏冠状动脉支架、生物传感器的表面处理。

次大气压低温等离子清洗机,次大气压辉光放电处理机,次大气压低温等离子表面改性设备

HPD-2400生产型设备
次大气辉光放电处理机

• 规格:
• 型号：HPD-2400；
• 电源：三相AC380V（±10%）
• 功率：1000VA；
• 电极尺寸：500mm×450mm；
• 设备尺寸：720(W)×1360(H)×765(D)mm
• 设备重量：180kg
• 腔体压力：500~3000Pa 

                次大气辉光放电效果图

用途：

1.酶标板、细菌计数培养皿、细胞培养皿、组织培养皿的亲水处理。经过等离子体处理后细菌培养皿表面由疏水变为亲水,并获得支持细胞黏附铺展的能力.并适用于细胞培养。等离子表面处理的效果可以简单地用滴水来验证，处理过的样品表面完全被水润湿。

2.生物芯片、人造血管、血管支架的处理

3.等离子清洗、刻蚀、等离子涂覆、等离子灰化和表面改性等场合。通过其处理，能够改善材料的润湿能力，使多种材料能够进行涂覆、镀等操作，增强粘合力、键合力，同时去除有机污染物、油污或油脂。

HPD-280实验型设备
次大气辉光放电处理机

                 次大气辉光放电效果图
 

• 规格:
  型号：HPD-280
  电源：单相AC220V（±10%）
  功率：500VA；
  电极尺寸：160mm×160mm；
  设备尺寸：620(W)×750(H)×450(D)mm
  设备重量：100kg
  腔体压力：500~3000Pa

HPD-100C实验型设备
低气压气辉光放电处理机

• 规格:
• 型号：HPD-100C
• 电源：单相AC220V（±10%）
• 功率：500VA；
• 腔极尺寸：100mm×200mm；
• 设备尺寸：620(W)×750(H)×450(D)mm
• 设备重量：100kg
• 腔体压力：20~200Pa